Еще компактнее станут микросхемы
Специалисты компании ASML, придумали как с помощью улучшенного метода фотографии, который используется для сборки микропроцессоров, выпускать еще более компактные чипы.
Действующий на данный момент способ, разработан полвека назад и заключается в увеличении числа транзисторов на кремневых пластинах.
В 1965 году этот метод оформил в виде теории Гордон Мур. Изобретатель располагал, что транзисторы на кристалле микропроцессора будут увеличиваться один раз в два года, но количество полупроводников нельзя увеличивать до бесконечности.
У ASML созрел план в обходе этого ограничения с помощью новой технологии фотолитографии в ультрафиолете. Новый метод заключен в том, чтобы «печатать» на кремневых пластинах транзисторы, при помощи света длиной волны 13 нм.
Компания ASML сообщает, что оборудование для массового производства микросхем запланировано к запуску в 2015 году. Сейчас существуют ограничения для нового изобретения.
В 1965 году этот метод оформил в виде теории Гордон Мур. Изобретатель располагал, что транзисторы на кристалле микропроцессора будут увеличиваться один раз в два года, но количество полупроводников нельзя увеличивать до бесконечности.
У ASML созрел план в обходе этого ограничения с помощью новой технологии фотолитографии в ультрафиолете. Новый метод заключен в том, чтобы «печатать» на кремневых пластинах транзисторы, при помощи света длиной волны 13 нм.
Компания ASML сообщает, что оборудование для массового производства микросхем запланировано к запуску в 2015 году. Сейчас существуют ограничения для нового изобретения.
